基片下磁场磁控对溅射辉光及薄膜梯度的影响
The influence of the magnetic field magnetron under the substrate on the sputtering glow and film thickness gradient作者机构：苏州大学物理系苏州215006
出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期：2004年第53卷第1期
页 面：306-310页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家自然科学基金
主 题：磁控溅射 溅射辉光 薄膜梯度 薄膜生长 磁矩 磁场强度
摘 要：溅射时在基片下方放置磁铁 ,让来自基片下方的磁场发挥磁控作用 ,以此来研究基片下磁场磁控溅射的方法 .发现辉光形貌以及沉积的薄膜厚度分布均发生明显变化的同时 ,辉光的外形也随着外加磁铁直径的变化而变化 .运用磁荷理论对空间磁场分布进行模拟 ,解释了辉光形貌变化的机理 ;运用沉积粒子在外加梯度磁场中运动理论解释了膜厚分布 .
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