预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响
Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films作者机构:南开大学电子信息与光学工程学院光电子薄膜与器件研究所天津300071 天津城建大学理学院应用物理系天津300084
出 版 物:《发光学报》 (Chinese Journal of Luminescence)
年 卷 期:2015年第36卷第2期
页 面:192-199页
核心收录:
学科分类:0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0827[工学-核科学与技术] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学] 1009[医学-特种医学]
摘 要:研究了金属预制层制备过程中溅射气压对Cu(In1-xGax)Se2(CIGS)薄膜及电池器件性能的影响。通过调节溅射气压改变预制层的结晶状态及疏松度与粗糙度,在合适的预制层结构下,活性硒化热处理过程中,可使Ga有效地掺入到薄膜中形成优质的CIGS固溶体。高溅射气压会使预制层过于致密,呈现非晶态趋势。经活性硒化热处理后,CIGS薄膜容易产生CIS与CGS两相分离现象,从而导致CIGS薄膜太阳电池的开路电压和填充因子降低,电池转换效率由10.03%降低到5.02%。