表面应力引起的弹性薄膜形状分叉
Shape Bifurcation of an Elastic Wafer Due to Surface Stress作者机构：中国科学技术大学材料力学行为和设计重点实验室合肥230027 暨南大学应用力学研究所广州510632
出 版 物：《应用数学和力学》 (Applied Mathematics and Mechanics)
年 卷 期：2003年第24卷第10期
页 面：1012-1016页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080102[工学-固体力学] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）]
摘 要： 此工作致力于无约束各向同性弹性薄膜在表面应力发生变化时几何非线性变形分析· 基于能量的考虑,导出了曲率与表面应力变化量的关系· 与已有线弹性分析结果的显著区别是,当薄膜很薄而上下表面应力差足够大时,薄膜曲率的解不再唯一。
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