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高能等离子体入射对磁场膨胀影响的模拟研究

Simulation of high energy plasma injecting effect on magnetic field inflation

作     者:姚杰 汤海滨 王海兴 刘畅 刘宇 Yao Jie;Tang Hai-Bin;Wang Hai-Xing;Liu Chang;Liu Yu

作者机构:北京航空航天大学宇航学院北京100083 

出 版 物:《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期:2007年第56卷第12期

页      面:6899-6904页

核心收录:

学科分类:07[理学] 070201[理学-理论物理] 0702[理学-物理学] 

基  金:国家自然科学基金(批准号:10675016) 航天创新基金资助的课题 

主  题:网格质点法 磁场膨胀 偶极子磁场 

摘      要:采用三维模型,使用混合网格质点法对等离子体入射偶极子磁场产生的磁场膨胀进行数值模拟.在模拟中考虑了高能等离子体注入两种不同类型磁场的情况:等离子体注入没有背景磁场的偶极子磁场和等离子体注入有背景磁场的偶极子磁场.研究表明背景磁场的存在不仅改变了粒子的分布,还改变了磁场膨胀的程度.还研究了注入的高能等离子体的速度对磁场膨胀的影响,结果表明入射的高能等离子体速度越大,磁场膨胀的程度就越大.对于低的入射速度,入射粒子在偶极子磁场中的回旋半径与偶极子磁场的特征长度相比较小,粒子被磁场束缚,对偶极子磁场的影响可以忽略.

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