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极紫外光刻物镜系统波像差检测技术研究

Measuring technology for wavefront aberration of EUVL objective system

作     者:张宇 金春水 马冬梅 王丽萍 Zhang Yu;Jin Chunshui;Ma Dongmei;Wang Liping

作者机构:东北电力大学理学院吉林吉林132012 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室吉林长春130033 

出 版 物:《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期:2012年第41卷第12期

页      面:3384-3389页

核心收录:

学科分类:070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基  金:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室资助项目(09Q03FQ090) 

主  题:光学检测 双光纤相移点衍射干涉仪 精度分析 波面重复精度 

摘      要:为了实现对极紫外光刻物镜系统波像差的超高精度检测,引入了双光纤相移点衍射干涉仪,对其检测方案进行了优化设计,在相移系统和光程差调节系统中引入了特伦结构,并且对光纤端面进行了抛光镀膜处理。将影响干涉仪检测精度及波面重复精度的误差源引入到干涉图中进行整体分析,得到干涉仪的检测精度及波面重复精度,为了验证双光纤相移点衍射干涉仪的切实可行性及理论分析结果的正确性,搭建了原理实验装置,对同一被检光学系统进行了512次测量,将其分成8组,最终8组测量的波面重复精度能够达到0.13 nm,优于λ/4000。

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