化学气相沉积制备纳米结构碳化钨薄膜(英文)

作     者：郑华均 黄建国 马淳安 赵峰鸣 朱英红 ZHENG Hua-jun;HUANG Jian-guo;MA Chun-an;ZHAO Fong-ming;ZHU Ying-hong

作者机构：浙江工业大学化工与材料学院纳米科学与技术工程中心 

出 版 物：《功能材料》 (Journal of Functional Materials)

年 卷 期：2005年第36卷第5期

页      面：789-793页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

主　　题：碳化钨 纳米结构薄膜 等离子增强化学气相沉积 

摘      要：采用氟化钨(WF6)和甲烷(CH4)为前驱体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备具有纳米结构的碳化钨薄膜。采用SEM、XRD、EDS等方法表征了碳化钨薄膜的形貌、晶体结构和化学组成。通过表征,表明在前驱体混合气体中的甲烷与氟化钨气体的流量比(碳钨比)为20、基底温度为800℃的条件下得到的碳化钨薄膜是由直径为20～35nm的圆球状纳米晶构成。通过分析影响薄膜的晶体结构、化学组成的因素后,认为要得到具有纳米晶结构的碳化钨薄膜,主要应控制前驱体气体中的碳钨比以及基底温度。