激光诱导荧光方法对SiH_4N_2混合气体放电等离子体的研究
The study of SiH_4/N_2 gas discharge plasma with LIF作者机构：复旦大学物理系
出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)
年 卷 期：1990年第10卷第4期
页 面：317-321页
核心收录：
学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
摘 要：用激光诱导荧光方法对SiH_4/N_2混合气体射频放电等离子体进行了研究,实验上首次检测到SiH_4分子射频放电离解过程的中间产物Si_2.
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