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用于去除单张图像高光的光照约束补色

Illumination-Constrained Inpainting for Single Image Highlight Removal

作     者:谭平 杨杰 雷蓓 Steve Lin 沈向洋 

作者机构:上海交通大学图像处理与模式识别研究所上海200030 洛桑联邦科技大学(EPFL)计算机系 微软亚洲研究院北京100080 

出 版 物:《软件学报》 (Journal of Software)

年 卷 期:2004年第15卷第1期

页      面:33-40页

核心收录:

学科分类:081203[工学-计算机应用技术] 08[工学] 0835[工学-软件工程] 0812[工学-计算机科学与技术(可授工学、理学学位)] 

基  金:国家自然科学基金~~ 

主  题:高光 补色 光照约束 

摘      要:在计算机视觉研究领域,如何检测和消除图像中的高光(specular)一直是个热点问题,有关的研究结果对于提高计算机视觉算法性能有着重要的影响.针对这一问题,提出了一种检测和消除高光的方法.首先,通过比较高光和漫反射光(diffuse)的色度特性的不同,给出了一种交互检测单色物体表面高光区域的方法;然后,引入补色(inpainting)方法并结合光照约束条件,设计了一种去除单张图像中高光并还原出漫反射分量的新的补色算法.与一般补色方法不同,该算法充分利用了高光区域含有的信息来指导补色过程.通过综合利用观测到的像素值、光源的色度分析(illumination chromaticity analysis)、光源颜色的平滑性等来约束补色过程,保证了算法能够克服一般的补色方法无法保持物体表面细微明暗变化的缺点.实验结果表明,与以往的去除单张图像高光的方法相比,该算法能够提供更好的光源色度估计,从而得到更准确的结果.

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