热丝化学气相沉积金刚石薄膜空间场的数值分析
NUMERICAL ANALYSIS OF SPACIAL FIELD IN HOT FILAMENT CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DIAMOND FILM作者机构:中国科学院金属研究所沈阳110016 中国工程物理研究院结构力学研究所绵阳621900
出 版 物:《金属学报》 (Acta Metallurgica Sinica)
年 卷 期:2005年第41卷第4期
页 面:437-443页
核心收录:
学科分类:07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0806[工学-冶金工程] 0818[工学-地质资源与地质工程] 0815[工学-水利工程] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0813[工学-建筑学] 0802[工学-机械工程] 0703[理学-化学] 0814[工学-土木工程] 0801[工学-力学(可授工学、理学学位)] 0702[理学-物理学]
基 金:中国工程物理研究院结构力学研究所创新基金资助项目04cxj-30
摘 要:根据热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石薄膜的几何特点和工艺参数,建立了该系统的二维温度场、速度场和密度场 的耦合模型.利用该模型对沉积大面积金刚石薄膜的空间场进行了模拟计算,研究了沉积参数对空间场的影响.结果表明,衬底处 的温度分布和质量流密度的计算值与实测值相吻合.只有气体进口速度对质量流密度的均匀性影响最大,其它沉积参数对衬底温度 的均匀性、质量流密度的均匀性影响不大.从热丝阵列的最低温度出发,优选出沉积100 mm×100 mm、高质量金刚石薄膜比 较适宜的热丝几何参数.