纯水系统EDI装置的化学清洗技术
Chemical Cleaning Technology for EDI Device in Pure Water Production System作者机构：陕西天宏硅材料有限责任公司陕西咸阳712038 上海水合环境工程有限公司上海200011
出 版 物：《净水技术》 (Water Purification Technology)
年 卷 期：2014年第33卷第1期
页 面：30-33页
学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术]
摘 要：EDI装置广泛应用于纯水系统深度除盐工艺,该文介绍了EDI装置污染的特征和原因,分析了EDI装置清洗的一般原则和方法,对EDI装置清洗剂的配方和应用工艺进行了探讨。
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