MEVVA源金属离子注入和金属等离子体浸没注入
MEVVA Ion Implantation and Metal Plasma Immersion Ion Implantation作者机构：北京师范大学低能核物理所
出 版 物：《中国表面工程》 (China Surface Engineering)
年 卷 期：2000年第13卷第3期
页 面：8-12页
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家863高技术项目资助!(863-715-008-0040)
摘 要：MEVVA源金属离子注入技术和金属等离子体浸没注入技术MePIII的共同特性是强流金属离子注入。它们各具长处，相互补充，共同发展。前者因无鞘层重叠问题和其方向强的特点，特别适用于小件、简单件的大批量金属离子注入处理，能保证处理的均匀性和高效率。后者因无视线加工限制并克服了保持剂量问题，特别适用于处理体积较大、形状复杂的工件，能保证工件所有暴露表面的加工均匀性，调整工作参数，还能进行金属膜沉积和各种沉积/注入比例的动态增强沉积金属、合金及化合物膜制备。综述上述二者的开发、工作原理、材料表面改性研究和工业应用新进展。
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