脉冲激光制膜过程中等离子体演化规律的研究
Study on the evolvement of plasma generated by pulsed laser deposition of thin film出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期：2003年第52卷第1期
页 面：242-246页
核心收录：
学科分类：07[理学] 070204[理学-等离子体物理] 0702[理学-物理学]
基 金：华中科技大学激光技术国家重点实验室基金 (批准号 :9713D) 湖北省自然科学基金 (批准号 :2 0 0 1ABB0 99) 湖北省教育厅重大科技项目基金 (批准号 :2 0 0 0B5 0 0 2 ) 国家自然科学基金 (批准号 :5 0 2 72 0 2 2 )资助的课题
主 题：演化规律 脉冲激光沉积 等离子体 有限差分 速度演化 速度演化 KTN薄膜 制备
摘 要：利用有限差分法对脉冲激光沉积 (PLD)技术制备KTa0 6 5Nb0 35O3(KTN)薄膜过程中等离子体在等温和绝热两个阶段的速度演化进行了模拟 ,并给出了其中主要粒子在空间的具体演化规律 ,对等离子体在空间膨胀的物理机制 ,进行了深入的讨论 ,给出了相应演化过程的物理图像 ,并揭示了等离子体羽辉在膨胀过程中呈现椭球外形的内在原因 .
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