基于迭代学习的掩模台与工件台同步控制
Synchronizing control of reticle and wafer stages using iterative learning control作者机构:哈尔滨工业大学航天学院黑龙江哈尔滨150001
出 版 物:《华中科技大学学报(自然科学版)》 (Journal of Huazhong University of Science and Technology(Natural Science Edition))
年 卷 期:2013年第41卷第2期
页 面:86-90页
核心收录:
学科分类:0810[工学-信息与通信工程] 0808[工学-电气工程] 08[工学] 0802[工学-机械工程] 080201[工学-机械制造及其自动化] 0812[工学-计算机科学与技术(可授工学、理学学位)]
基 金:国家科技重大专项资助项目(2009ZX02207) 国家重点基础研究发展计划资助项目(973-10007.07-LB7)
摘 要:针对光刻机掩模台与工件台在曝光扫描过程中必须保持运动同步的问题,提出了一种迭代学习同步控制方法.为提高系统的动态跟踪精度和带宽,采用以直线电机和音圈电机为执行器的宏微控制结构,建立了掩模台的动力学模型.提出的主从同步控制结构以工件台为主动系统、掩模台为从动系统,在常规反馈控制的基础上加入了同步控制器.根据迭代学习控制方法设计了二阶同步学习律,并证明了该学习律的收敛性.仿真结果表明同步学习算法可以明显地减小同步偏差,同步偏差的峰值和移动标准差随迭代次数的增加而不断减小,在50次迭代后分别减小了45.12%和36.84%.