脉冲激光沉积ZrW_2O_8/ZrO_2复合薄膜及其靶材制备
ZrW_2O_8/ZrO_2 Film Growth and Its Composite Target Fabrication作者机构:江苏大学材料科学与工程学院镇江212013
出 版 物:《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)
年 卷 期:2009年第29卷第6期
页 面:686-689页
核心收录:
学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)]
基 金:国家自然科学基金项目(No.50372027) 江苏省高校自然科学重大基础研究项目(No.06KJA43010) 江苏大学博士创新基金(CX07B-15x)
主 题:ZrW2O8 ZrO2 脉冲激光法 低热膨胀 复合靶
摘 要:采用化学共沉淀法合成26wt%ZrW2O8/ZrO2近零膨胀复合陶瓷靶材,并以脉冲激光法在石英基片上沉积制备了ZrW2O8/ZrO2复合薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、热膨胀仪、扫描电子显微镜(SEM)研究了复合靶材的晶体结构、热膨胀性能和致密度,同时也探索了热处理温度对复合薄膜的相组成和表面形貌的影响。结果表明:合成的靶材由-αZrW2O8和m-ZrO2组成,26wt%ZrW2O8/ZrO2复合靶材在30℃-600℃的热膨胀系数为-0.5649×10^-6K^-1,近似为零,且靶材致密、均匀;脉冲激光沉积制备的薄膜为非晶态,表面平滑、致密,随着热处理温度的升高,薄膜开始结晶,在1200℃热处理6min后得到纯ZrW2O8/ZrO2复合薄膜,且两相物质在膜层中分散均匀,结晶后的薄膜存在一些孔洞缺陷。