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硅的表面结构与电化学(英文)

Electrochemistry and Structures of Silicon Surface

作     者:章小鸽 Gregory X. Zhang

作者机构:加拿大安大略Teckcomino金属有限公司厦门大学化学系福建厦门361005 

出 版 物:《电化学》 (Journal of Electrochemistry)

年 卷 期:2006年第12卷第1期

页      面:1-8页

核心收录:

学科分类:081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学] 

主  题: 侵刻 溶解 表面结构 器件加工 表面反应 微机电系统 

摘      要:从原子水平到微米尺寸,准确控制硅表面结构的精密加工,诸如无序的表面粗糙或者精细的图案,乃是电子元件性能及其可靠性的保证.硅在液中的湿清洗以及硅表面侵刻的电化学反应对硅表面结构的形成具有重要作用.近数十年来,有关阐明和控制硅/溶液界面上复杂的电化学反应及其与表面结构形成的关系已有大量的研究,相关研究成果已在新近编著成书.本文综合有关方面研究资料评述现代硅溶解及其形成的表面结构.

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