用于制备YBCO薄膜的光辅助MOCVD反应器内流动现象的数值研究
NUMERICAL STUDY OF FLOW PHENOMENA IN A PHOTO-ASSISTED MOCVD REACTOR FOR PREPARING YBCO THIN FILMS作者机构：江苏大学能源与动力工程学院镇江212013 集美大学机械工程学院厦门361021 吉林大学电子科学与工程学院长春130012
出 版 物：《工程力学》 (Engineering Mechanics)
年 卷 期：2011年第28卷第6期
页 面：206-211页
核心收录：
学科分类：080704[工学-流体机械及工程] 080103[工学-流体力学] 08[工学] 0807[工学-动力工程及工程热物理] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）]
摘 要：对一种制备YBCO薄膜的光辅助MOCVD反应器内的流动现象进行了三维数值模拟研究。在模拟计算中,分别改变基座与进口的相对角度(Φ)、反应器顶壁倾斜角度(Ψ),得出反应器中流场的相应变化。根据对模拟结果的分析,发现当基座平面与进气口轴线之间的夹角Φ=22.5°及反应器顶壁倾角Ψ=30°时,基片表面气流速度大小合适,分布均匀,且回流涡旋得到抑制,反应器内的流场较适合YBCO薄膜生长。
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