包含等离子体辅助沉积参数和离子刻蚀作用过程的结构区域相图
A Structure Zone Diagram Including Plasma-based Deposition and Ion Etching作者机构：加利福尼亚大学劳伦斯伯克利国家实验室
出 版 物：《中国表面工程》 (China Surface Engineering)
年 卷 期：2016年第29卷第1期
页 面：1-6页
核心收录：
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 0817[工学-化学工程与技术] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：美国能源部项目(DE-AC02-05CH11231)
主 题：结构区域相图 薄膜制备 等离子体辅助 离子刻蚀 应力 形貌 同系温度 位能与动能
摘 要：文中提出一种扩展的薄膜微观结构的区域相图,可以用其来表征过滤阴极弧以及高功率脉冲磁控溅射镀膜过程中含有大量离子流的动态沉积过程。其坐标轴包括广义同系温度,标量化动能以及可以表征离子刻蚀作用的净膜厚。需要强调的是,由于影响薄膜生长的实际参数要远超相图中有限的坐标轴数,因此该结构区域相图展示的生长条件与薄膜结构之间的关系是近似和简化过的。
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