烷氧基键合的VO^(3+)腙配合物的合成和晶体结构及氧化还原性质研究

作     者：高山 刘世雄 GAO Shan;LIU Shi-Xiong

作者机构：福州大学化学系 

出 版 物：《高等学校化学学报》 (Chemical Journal of Chinese Universities)

年 卷 期：2000年第21卷第5期

页      面：671-674页

核心收录：

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学] 

基　　金：福建省自然科学基金 

主　　题：钒酰配合物 腙 晶体结构 氧化还原性质 

摘      要：合成了配合物ＶＯ（Ｌ）（ＣＨ_３Ｏ）（ＣＨ_３ＯＨ）（Ｈ_２Ｌ为水杨醛苯甲酰腙），并对其进行了元素分析，ＩＲ，ＵＶ，１ＨＮＭＲ，ＣＶ和单晶Ｘ射线衍射实验．晶体属单斜晶系，Ｐ２１／ｃ空间群，晶胞参数ａ＝０．８１６１（１）ｎｍ，ｂ＝１．６９４ ６（２） ｎｍ， ｃ＝１．２２３ ２（１） ｎｍ， β＝１０４．２７４（９）， Ｖ＝１．６３９ ４（３） ｎｍ３， Ｍｒ＝３６８．２６， Ｚ＝４．三齿腙配体中的２个氧原子和１个氮原子均与饥原子配位并形成赤道平面，钒原子具有扭曲的八面体配位构型．电化学研究表明，配合物的氧化还原电位Ｅ１／２按ＣＨ２Ｃｌ２ＣＨ３ＣＮＤＭＦ的顺序向正电位方向移动．