Bi20Sb80薄膜的皮秒激光脉冲诱导瞬态光学响应

作     者：翟凤潇 李思勉 黄欢 姜来新 王阳 赖天树 吴谊群 

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室上海201800 中山大学物理系光电子材料与技术国家重点实验室广东广州510275 

出 版 物：《中国激光》 (Chinese Journal of Lasers)

年 卷 期：2010年第37卷第10期

页      面：2620-2624页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家973计划(2007CB935402) 国家自然科学基金(50872139,10874247,60644002,60678009) 中国科学院重要方向项目(KJCX2.YW.M06)资助课题 

主　　题：薄膜 BiSb薄膜 抽运-探测 皮秒脉冲 光热开关 超分辨掩模 

摘      要：利用抽运-探测技术研究了皮秒激光脉冲诱导下Bi20Sb80(BiSb)薄膜的时间分辨反射率演化过程。利用原子力显微镜和椭圆偏振光谱仪研究了激光诱导开关前后薄膜微区的表面结构特征和光学特性。结果表明,在一定能量密度范围内的皮秒激光脉冲作用下,该薄膜具有快速光热开关特性,瞬态反射率变化的开关时间约为19 ns,且不随激光能量密度的变化而变化,在多次脉冲重复作用下具有较好的重复性和稳定性。表明BiSb薄膜有望用于超快光存储超分辨掩模结构中,这将为发展新型快速开关掩模材料和理解BiSb作为超分辨掩模的工作机理提供帮助。