电源工作模式对中频磁控溅射沉积速率的影响
Effects of power supply mode on deposition rate in middle-frequency magnetron sputtering作者机构：核工业西南物理研究院四川成都610041
出 版 物：《真空》 (Vacuum)
年 卷 期：2009年第46卷第1期
页 面：37-41页
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：在中频孪生靶磁控溅射实验装置上,研究了电源恒压、恒流、恒功率工作模式下沉积速率与气压、电参数之间的关系,得出不同工作模式下电压、电流、功率及频率、占空比对沉积速率的影响:恒流模式下沉积速率稳定性最好,恒压最差;气压变化时,恒功率、恒流工作模式有稳定沉积速率作用;恒流模式下,沉积速率随占空比升高而减小,随频率升高而增大。
维普期刊数据库
同方期刊数据库