新型金属卟啉共轭聚合物的合成与光电流响应
作者机构：中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室北京100080
出 版 物：《科学通报》 (Chinese Science Bulletin)
年 卷 期：2006年第51卷第5期
页 面：524-531页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家自然科学基金（批准号：20225415,20423003和20374053） 国家基础研究发展规划（批准号：2002CB613401）资助项目.
摘 要：采用Sonogashira偶联反应,制备了几种以芴或咔唑为间隔基的新型金属卟啉共轭聚合物.这些新型金属卟啉共轭聚合物具有较高的分子量、很好的溶解性和成膜性.其光谱性质和光电流响应结果表明,聚合物中卟啉的含量是影响卟啉聚合物光电流响应的主要因素,且咔唑基团的引入有利于卟啉聚合物光电流的产生.
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