AgOx薄膜的形貌、光谱以及激光烧蚀研究(英文)
Morphology,spectrum and laser ablation characteristics of AgO_x thin films作者机构:烟台大学环境与材料工程学院山东烟台264005 山东大学晶体材料国家重点实验室山东济南250100
出 版 物:《功能材料》 (Journal of Functional Materials)
年 卷 期:2006年第37卷第1期
页 面:139-142页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 070207[理学-光学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学]
基 金:CommissionofScienceTechnologyandIndustryforNationalDefense(112500020302)
摘 要:制备了不同氧分压比的AgOx薄膜,对其进行了原子力(AFM)形貌观察,发现分压比0.4时,薄膜的粗糙度最小,均匀性也最好。光谱性质表明:随着分压比的增加,存在着金属向半导体的转变;经过热处理后的共振吸收峰和扫描电(SEM)表明了金属银粒子的析出。不同激光功率下的烧蚀实验表明:在激光照射下存在着两记录(烧蚀)形态,一种是银粒子散布在其间的气泡型;另一种是形成中间烧蚀孔,银粒子在孔附近密集的破裂气泡型。