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用化学气相沉积方法在石墨表面沉积钨涂层的研究

Study of Tungsten Coating Deposited on Graphite by CVD

作     者:刘高建 杜继红 李争显 周慧 

作者机构:西北有色金属研究院陕西西安710016 

出 版 物:《稀有金属快报》 (Rare Metals Letters)

年 卷 期:2005年第24卷第3期

页      面:28-30页

学科分类:080503[工学-材料加工工程] 081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

主  题:钨涂层 表面沉积 化学气相沉积方法 基体 晶粒 石墨 厚度 氢气 氯气 研究 

摘      要:研究了在一定温度的石墨基体表面上用化学气相沉积钨涂层的方法。通过调节氢气、氯气的气流量,控制流量比,得到了具有一定厚度、晶粒均匀致密的钨涂层,并对试验中仍需解决的问题做了讨论。

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