反应磁控溅射制备超亲水性SiO_2/TiO_2多层膜的研究

作     者：王君安 王浩 薛双喜 曹歆 杨辅军 汪汉斌 高云 黄忠兵 Wang Junan;Wang Hao;Xue Shuangxi;Cao Xin;Yang Fujun;Wang Hanbin;Gao Yun;Huang Zhongbing

作者机构：湖北大学物理学与电子技术学院暨纳米技术研究中心武汉430062 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2006年第26卷第2期

页      面：110-113页

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：湖北大学优秀创新研究团队资助项目 

主　　题：反应磁控溅射 超亲水性 二氧化钛 锐钛矿 

摘      要：本文采用反应磁控溅射的方法在玻璃基片上制备TiO2及SiO2/TiO2多层膜,利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、接触角测定等分析方法对试样进行表征。研究了不同制备工艺对薄膜亲水性能的影响,初步讨论了SiO2/TiO2多层膜的超亲水性机理。结果表明这种多层膜结构,其底层SiO2作用在于阻止玻璃中的钠离子在溅射过程中向薄膜中的扩散,适当厚度的顶层SiO2,一方面利用到了SiO2本身的亲水性,同时也利用到了TiO2薄膜的光致亲水性。因此在制备TiO2超亲水性薄膜的时候,考虑制备SiO2底层和顶层对于亲水性效果有明显的改善作用。