日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术
作者机构：北京市通州区农业技术推广站北京通州101101
出 版 物：《蔬菜》 (Vegetables)
年 卷 期：2014年第3期
页 面：38-39页
学科分类：09[农学] 0902[农学-园艺学] 090201[农学-果树学]
摘 要：应用一绳双蔓栽培技术,可有效提高种植密度,提高日光温室光热资源利用率。在行距70 cm情况下,一绳双蔓栽培较双绳双蔓栽培株距由50 cm降至30 cm,667 m2种植密度由2 380株提高到3 170株。每667 m2可多定植790株,单瓜质量在1.6 kg左右,667 m2可增加西瓜产量1 200 kg以上,增收6 000元左右。
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