C^+注入对金属/SiO_2体系摩擦学行为的影响
Effects of C^+ Implantation on Tribological Behavior of Three Metallic Thin Films on Silicon Dioxide Substrate作者机构：中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室甘肃兰州730000
出 版 物：《摩擦学学报》 (Tribology)
年 卷 期：2002年第22卷第5期
页 面：334-338页
核心收录：
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 080203[工学-机械设计及理论] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0802[工学-机械工程]
基 金：国家自然科学基金资助项目 ( 5 0 0 2 30 0 1)
摘 要：考察了 C+注入对 Ti、Al和 Ag等 3种金属 /氧化物体系的硬度、膜基结合强度和摩擦学性能的影响 .结果表明 ,C+注入可以显著提高 Ti、Al和 Ag金属 /氧化物的硬度和膜基结合强度 ,从而改善摩擦学性能 .C+注入使得 Ti膜体相和界面处产生 Ti- C固溶体 ,这是
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