磁控溅射技术制备ZnO透光薄膜
Preparation of ZnO Transparent Films by Magnetron Sputtering作者机构:南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心江西南昌330031
出 版 物:《南昌大学学报(理科版)》 (Journal of Nanchang University(Natural Science))
年 卷 期:2007年第31卷第5期
页 面:452-455页
学科分类:07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学]
摘 要:采用RF磁控溅射方法,在玻璃衬底上制备了择优取向的ZnO薄膜;通过台阶仪、X射线衍射技术、原子力显微镜和分光光度计分别测量了不同溅射功率条件下淀积的ZnO薄膜厚度(淀积速率)、结晶质量、表面形貌与粗糙度、透光光谱,报道了该薄膜结晶质量、薄膜粗糙度与其在可见光区透光率的关系。