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磁控溅射技术制备ZnO透光薄膜

Preparation of ZnO Transparent Films by Magnetron Sputtering

作     者:俞振南 姜乐 熊志华 郑畅达 戴江南 江风益 YU Zhen-nan;JIANG Le;XIONG Zhi-hua;ZHENG Chang-da;DAI Jiang-nan;JIANG Feng-yi

作者机构:南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心江西南昌330031 

出 版 物:《南昌大学学报(理科版)》 (Journal of Nanchang University(Natural Science))

年 卷 期:2007年第31卷第5期

页      面:452-455页

学科分类:07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学] 

主  题:ZnO 磁控溅射 透光光谱 粗糙度 溅射功率 

摘      要:采用RF磁控溅射方法,在玻璃衬底上制备了择优取向的ZnO薄膜;通过台阶仪、X射线衍射技术、原子力显微镜和分光光度计分别测量了不同溅射功率条件下淀积的ZnO薄膜厚度(淀积速率)、结晶质量、表面形貌与粗糙度、透光光谱,报道了该薄膜结晶质量、薄膜粗糙度与其在可见光区透光率的关系。

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