基于模糊模型的CMP过程智能R2R预测控制方法

作     者：王亮 胡静涛 Wang Liang;Hu Jingtao

作者机构：中国科学院沈阳自动化所工业信息学重点实验室辽宁沈阳110016 中国科学院研究生院北京100039 沈阳化工大学计算机科学与技术学院辽宁沈阳110142 

出 版 物：《计算机测量与控制》 (Computer Measurement &Control)

年 卷 期：2012年第20卷第6期

页      面：1558-1561页

学科分类：08[工学] 081101[工学-控制理论与控制工程] 0811[工学-控制科学与工程] 081102[工学-检测技术与自动化装置] 

基　　金：国家科技重大专项基金(2009ZX02008-003 2009ZX02001-005)资助 沈阳市科技项目(108155-2-00)资助 

主　　题：化学机械研磨 T-S模糊模型 批次控制 预测控制 克隆选择 

摘      要：针对化学机械研磨(CMP)过程非线性、时变和产品质量不易在线测量的特性,提出了一种基于T-S模糊模型的CMP过程智能run-to-run(R2R)预测控制器FIPR2R;通过G-K聚类算法和最小二乘法对CMP过程的T-S模糊预测模型离线辨识,解决了复杂CMP过程难以建立精确数学模型的难题和提高了模型预测精度;通过双指数加权移动平均(dEWMA)中对过程扰动及漂移进行估计的方法实现反馈校正和基于克隆选择算法的滚动优化求取最优控制律,提高了控制精度;性能分析结果表明,FIPR2R控制器的控制性能优于dEWMA方法,有效抑制了过程扰动和漂移的影响。