二维相关分析中参考谱的选择对分离重叠峰的影响

作     者：王梦吟 赖祖亮 武培怡 mengyin Wang;Zuliang Lai

作者机构：复旦大学高分子科学系和先进材料实验室聚合物分子工程教育部重点实验室上海200433 

出 版 物：《化学学报》 (Acta Chimica Sinica)

年 卷 期：2009年第67卷第16期

页      面：1917-1922页

核心收录：

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学] 

基　　金：国家自然科学基金(20774022) 上海市优秀学科带头人计划(No07XD14002)资助项目 

主　　题：二维相关光谱 参考谱 重叠峰 

摘      要：二维相关光谱是一项将光谱强度看作两个独立的光谱变量的函数的技术,它是由动态光谱经过数学转化后得到的.在扰动过程中,动态光谱等于实际测得的光谱减去参考谱,参考谱的选择是任意的,甚至可以为0,但是在实际应用时,人们逐渐发现参考谱的选择会对二维相关光谱产生一定的影响.本篇文章采用模拟的方法,建立光谱模型,光谱强度按e指数形式单调变化,比较以平均谱为参考谱和不设参考谱得到的二维相关光谱图,分析它们的区别,在不同参考谱条件下,利用二维相关光谱分离重叠峰,得到的结果也不相同,将两种条件综合利用可以得到更多更正确的信息.