Deprotection of t-Butyldimethylsiloxy (TBDMS) Protecting Group with Catalytic Copper (II) Chloride Dihydrate
Deprotection of t-Butyldimethylsiloxy (TBDMS) Protecting Group with Catalytic Copper (II) Chloride Dihydrate作者机构：Department of Chemistry Peking University
出 版 物：《Chinese Chemical Letters》 (中国化学快报（英文版）)
年 卷 期：2000年第11卷第9期
页 面：753-756页
核心收录：
学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学]
主 题：TBDMS ether deprotection copper (II) chloride dihydrate
摘 要：t-Butyldimethylsilyl (TBDMS) ether can be cleaved upon refluxing in acetone/H2O (95 : 5) in the presence of a catalytic amount of copper (II) chloride dihydrate (5 mmol %).
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