树脂型光刻胶薄膜中Eu^3＋的辐射跃迁特性

作     者：李晓娟 TSANG Kwok Chu PUN Edwin Yue-Bun 林海 LI Xiao-juan;TSANG Kwok Chu;PUN Edwin Yue-Bun;LIN Hai

作者机构：大连工业大学化工与材料学院辽宁大连116034 香港城市大学电子工程系中国香港九龙 

出 版 物：《光谱学与光谱分析》 (Spectroscopy and Spectral Analysis)

年 卷 期：2009年第29卷第3期

页      面：602-606页

核心收录：

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学] 

基　　金：国家教育部留学回国人员科研启动基金项目(2005383) 大连工业大学硕士研究生科技创新基金项目(2007003) 大连市科技基金项目(2004166)资助 

主　　题：稀土配合物 光刻胶薄膜 Judd-Ofelt参数 辐射跃迁概率 

摘      要：合成了稀土配合物Eu(TTFA)3(TTFA,2-thenoyltrifluoroacetone)掺杂的树脂型光刻胶薄膜,测定了薄膜的激发光谱和发射光谱。根据Judd-Ofelt理论,由发射光谱获得了Eu3+在光刻胶薄膜中的J-O参数Ω2=24.4×10-20cm2,Ω4=2.8×10-20cm2。利用得到的J-O参数计算了光刻胶薄膜中5D0激发态的辐射跃迁概率(977 s-1)和辐射寿命(1.02 ms),同时导出了光刻胶薄膜中Eu3+的5D0→7FJ(J=1,2,4)跃迁的受激发射截面σ和荧光分支比β。分析表明,Eu3+掺杂的光刻胶薄膜具有较长的亚稳态寿命以及较大的受激发射截面,是一种主动放大的光波导薄膜。其发射波长与光刻胶的低吸收损耗区很好地匹配,可用于研发聚合物光波导放大器和激光器。