InP/SiO_2纳米复合膜的微观结构和光学性质
THE MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF THE NANOCOMPOSITE FILMS OF InP/SiO_2作者机构：广东省五邑大学薄膜与纳米材料研究所江门529020 香港中文大学电子工程系暨材料科技研究中心 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所天津300071
出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期：2001年第50卷第8期
页 面：1574-1579页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0704[理学-天文学]
基 金：国家自然科学基金 (批准号 :6 980 6 0 0 8) 广东省自然科学基金(批准号 :970 716 ) 中山大学超快速激光光谱学国家重点实验室开放课
摘 要：应用射频磁控共溅射方法在石英玻璃和抛光硅片上制备了InP SiO2 复合薄膜 ,并在几种条件下对这些薄膜进行退火 .X射线光电子能谱和卢瑟福背散射实验结果表明 ,复合薄膜中InP和SiO2 的化学组分都大体上符合化学计量配比 .X射线衍射和激光喇曼谱实验结果都证实了复合薄膜中形成了InP纳米晶粒 .磷气氛保护下的高温(5 2 0℃ )退火可以消除复合薄膜中残存的In和In2 O3 并得到了纯InP SiO2 纳米复合薄膜 .
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