表面凹陷对等离子体浸没离子注入均匀性的影响
INFLUENCE OF SURFACE TRENCH ON UNIFORMITY OF PLASMA IMMERSION ION IMPLANTATION作者机构：哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室黑龙江哈尔滨150001 香港城市大学物理及材料科学系
出 版 物：《计算物理》 (Chinese Journal of Computational Physics)
年 卷 期：2000年第17卷第4期
页 面：449-454页
核心收录：
学科分类：07[理学] 08[工学] 070204[理学-等离子体物理] 082701[工学-核能科学与工程] 0827[工学-核科学与技术] 0702[理学-物理学]
主 题：等离子体浸没离子注入 鞘层 表面凹陷 均匀性
摘 要：利用二维流体模型和数值计算方法模拟了等离子体浸没离子注入 (PⅢ )中 ,具有圆弧凹槽的平面靶周围的鞘层扩展情况 ,计算了鞘层扩展过程中的电势分布、离子速度和离子密度变化 ,获得了沿靶表面的离子入射角度和注入剂量的分布情况 ,为等离子体浸没离子注入处理复杂形状靶提供了理论基础。
维普期刊数据库
同方期刊数据库