光学建筑师——Abelardo Morell
作者机构：纽约Bonni Benrubi画廊
出 版 物：《中国摄影家》 (Chinese Photographers)
年 卷 期：2009年第12期
页 面：44-45页
主 题：建筑师 美术家 帝国大厦 小孔成像 针孔成像 Abelardo Morell 摄影 美术 风景 地下室 地下建筑物
摘 要：Abelardo Morell 1948年生于古巴的哈瓦那。他的父亲在古巴革命中两度入狱,1962年通过小道消息得知自己已经在行刑名单上后,他父亲带着全家逃难到美国。从看着熟悉的人们卷入仇杀的噩梦中走出不久,迁移到新奥尔良的一家人又不自主地被推入新奥尔良种族运动的水深火热中。他们辗转来到纽约,暂居在一间地下室。
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