辉光放电辅助脉冲激光沉积CN_x薄膜的价键结构及机械性能
Valence Bond Structure and Mechanical Properties of CNx Films Prepared by Glow Discharge Assisted Pulsed Laser Deposition作者机构:浙江工业大学机械工程学院浙江杭州310014
出 版 物:《中国激光》 (Chinese Journal of Lasers)
年 卷 期:2013年第40卷第11期
页 面:186-191页
核心收录:
学科分类:0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0702[理学-物理学]
主 题:薄膜 氮化碳 脉冲激光沉积 X射线光电子谱 摩擦与磨损
摘 要:采用直流辉光放电辅助脉冲激光沉积(PLD)法,以不同的激光通量在单晶硅基底上沉积CNx薄膜。利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱、X射线衍射(XRD)谱、X射线光电子谱(XPS)、纳米压入仪和球盘式微型摩擦磨损试验仪对薄膜的成分、微观结构、表面形貌、力学及摩擦学性能进行了系统分析。结果表明:所有薄膜处于非晶状态。当激光通量从5.1J/cm2提升至7.5J/cm2时,薄膜的含氮原子数分数由27.7%上升至34.1%;膜中sp3 C—N键和sp2 C—N键的面积百分数上升,sp3 C—C键的面积百分数降低,C原子sp3杂化程度增加,薄膜的石墨化程度下降;薄膜的硬度由3.7GPa增加至5.3GPa,磨损率从3.8×10-13 m3/(N·m)下降至7.9×10-14 m3/(N·m),摩擦系数从0.13上升至0.18。