双近贴式X射线像增强器成像不均匀性的分析与校正
Analysis and Correction for Nonuniformity of the Two Side Proximity of X-ray Image Intensifier Radiography作者机构：中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室西安710119 中国科学院研究生院北京100049
出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)
年 卷 期：2009年第38卷第6期
页 面：1353-1357页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0804[工学-仪器科学与技术] 0702[理学-物理学]
主 题：射线成像 X射线像增强器 图像不均匀性 不一致性校正
摘 要：分析了双近贴式X射线像增强器响应不一致性的产生机理,对每个像元建立了光电响应的数学模型.基于该模型,提出了一种改进的多点校正算法.该算法将对数曲线模型转化为线性响应模型,通过基于最小二乘法的两点拟合算法对图像数据进行校正.对比分析了校正前后图像的背景标准差及灰度分布曲线,实验结果验证了该方法的有效性.
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