掺氮可见光响应TiO_(2-x)N_x光催化薄膜的制备及性能初探

作     者：阮广福 叶勤 RUAN Guang-fu;YE Qin

作者机构：暨南大学物理系广东广州516032 

出 版 物：《暨南大学学报（自然科学与医学版）》 (Journal of Jinan University(Natural Science & Medicine Edition))

年 卷 期：2007年第28卷第1期

页      面：88-91页

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：广东省自然科学基金项目(04010480) 广东科技攻关项目(2003Z3-D2011) 

主　　题：TiO2薄膜 氮掺杂 红移 

摘      要：采用反应磁控溅射法在玻璃基片上制备N掺杂TiO2-xNx薄膜和纯TiO2薄膜,并且对两种薄膜样品分别进行了300、400和500℃的退火处理.采用X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光光度计(UV-V is)对经过退火处理的样品进行了表征.结果表明:成功制备了N掺杂TiO2-xNx薄膜,部分N进入了TiO2薄膜晶格,并且以N-O键形式存在;N掺杂TiO2-xNx薄膜和纯TiO2薄膜相对比,晶型和表面形貌没有什么太大的区别,但通过紫外-可见光吸收谱图可以发现经过400℃退火处理的N掺杂TiO2-xNx薄膜吸收带边从纯TiO2薄膜的400 nm红移到455 nm.