N-甲基吡咯烷酮与H_nXMo_(12)O_(40)·mH_2O(X=P,Si,Ge)电荷转移盐的合成、表征及非线性光学性质

作     者：牛景扬 王敬平 柏艳 党东宾 于丽 NIU Jing-Yang;WANG Jing-Ping;Bo Yan;DANG Dong-Bin;YU Li

作者机构：河南大学化学化工学院开封475001 

出 版 物：《应用化学》 (Chinese Journal of Applied Chemistry)

年 卷 期：2000年第17卷第2期

页      面：134-137页

核心收录：

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070303[理学-有机化学] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学] 

基　　金：国家自然科学基金! ( 2 960 10 0 2 ) 河南省自然科学基金 河南省教委自然科学基金资助项目 

主　　题：杂多酸 N-甲基吡咯烷酮 合成 表征 电荷转移盐 

摘      要：由 N-甲基吡咯烷酮 (NMP)和 Hn XMo1 2 O40 · m H2 O(X=P,Si,Ge)合成了具有非线性光学性质的电荷转移盐 ,(NMPH ) 3PMo1 2 O40 · CH3CN ( ) ,(NMPH) 4Si Mo1 2 O40 · CH3CN ( )和(NMPH) 4Ge Mo1 2 O40 · CH3CN( ) ,并以元素分析 ,红外光谱 ,漫反射电子光谱进行了表征 .结果表明 ,杂多酸形成电荷转移盐后其阴离子结构未变 ;N-甲基吡咯烷酮通过 N原子与酸中的质子H+ 结合成阳离子而成盐 ,在高压汞灯照射下阴阳离子之间可以发生电荷转变 .非线性光学性质研究表明 ,电荷转移盐的倍频效应强度分别为 I2ω =0 .3IKDP,I2ω =0和 I2ω =0 .0 2 IKDP,三阶非线性系数分别为χ( 3) =5 .0× 10 - 1 4 esu,χ( 3) =3.1× 10 - 1 3esu和χ( 3) =4.3× 10 - 1