多弧离子镀Ti(C,N)/TiN多元多层膜研究
Depositing of Ti(C,N)/TiN Multi-Element-Layer Film on Aluminum Alloy Substrate by Multi\|Arc Ion Plating作者机构：全军装备维修表面工程研究中心北京100072
出 版 物：《材料保护》 (Materials Protection)
年 卷 期：2003年第36卷第6期
页 面：6-8页
核心收录：
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家自然科学基金资助项目(编号:50235030)装备再制造技术国防科技重点实验室开放基金
摘 要： 在LF6防锈铝的基体上采用多弧离子镀技术沉积了Ti(C,N)/TiN/Ti(C,N)/TiN/Ti(C,N)/TiN六层多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究。结果表明:多元多层膜表面膜层均匀,未出现龟裂现象;膜与基体之间形成了纳米级厚度的Al3Ti新相层,说明膜与基体间的结合存在化学键合,结合强度良好,划痕临界载荷达79N。显微硬度达HV0.11911.0,与基体相比,其表面显微硬度提高了近20倍,耐磨性提高了10倍以上,但摩擦因数较高(μ=0.66),粘着对偶件磨损,使对偶件磨损较严重。
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