投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足研究
An Investigation on Pressure-Vacuum Balance Air-Foot of Positioning Stage for Wafer Stepper作者机构：中国科学院光电技术研究所成都610209
出 版 物：《微细加工技术》 (Microfabrication Technology)
年 卷 期：2001年第4期
页 面：33-35页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
主 题：投影光刻机 压力-真空平衡气足 优化设计 工件台 微电子
摘 要：主要介绍投影光刻机工件台的压力 -真空平衡气足设计 ,对压力 -真空平衡气足的径向压力分布、最大刚度、最佳气膜间隙以及承载能力进行了分析 。
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