头影测量分析和面像测量分析的相关关系研究
The relationship between cephalometric and facial photographic analyses作者机构：100081北京大学口腔医学院正畸科 Case Western Reserve University Cleveland OH 44106
出 版 物：《口腔正畸学》 (Chinese Journal of Orthodontics)
年 卷 期：2005年第12卷第1期
页 面：1-5页
学科分类：10[医学]
基 金：国家留学基金
主 题：头影测量分析 面像测量分析 遗传流行病学 骨骼组织 软组织 X线检查
摘 要：目的通过对头影测量分析和面像测量分析相对应的测量项目间的相关关系的研究阐明两种分析方法间的相关关系.方法研究样本来自于一项遗传流行病学的家族研究,共包括326个研究对象(其中白人168人,非洲裔美国人158人).每位研究对象的均拍摄标准头颅定位侧位片及标准侧位面像并进行相应的头影测量分析和面像测量分析,分别采用了6项传统的头影测量项目和8项面像分析测量项目.结果研究发现头影测量分析和面像测量分析相应的测量项目之间有较好的相关性.在非洲裔美国人组中,两种测量分析方法测得的下颌长度、前面高间的相关系数分别为0.676和0.690.骨性全面高和面像中测得的全面高的相关系数也达到0.521.结论本研究的结果提示面像测量分析可以作为临床和遗传流行病学研究的有价值工具,对标准化面像的测量分析是头影测量分析的有益补充.
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