脉冲激光沉积KTN薄膜动力学过程模拟
Simulation of the Dynamics Process of Pulsed Laser Deposition of KTN Thin Film作者机构：华中理工大学物理系
出 版 物：《华中理工大学学报》 (Journal of Huazhong University of Science and Technology)
年 卷 期：2000年第28卷第5期
页 面：92-94页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：根据流体力学理论 ,对脉冲激光沉积KTN薄膜的动力学过程进行了模拟 ,讨论了激光沉积的KTN薄膜厚度分布随基片位置的变化规律 .结果表明 ,等离子体在膨胀过程中会形成垂直靶表面的等离子体羽辉 ,当激光束的位置和方向不变时 ,KTN薄膜的厚度分布不均匀 ,呈现类高斯分布形状 。
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