工艺参数对多涂层结构及性能的影响

作     者：H.HOLLECK M.LAHRES P.WOLL 殷景华 吕利泰 刘尔嘉 

作者机构：Universitat und Kernforschungszentrum Karlsruhe Postfach 3640 7500 Karlsruhe I (F.R.G.) 哈尔滨科学技术大学 

出 版 物：《国外金属热处理》 (Heat Treatment of Metals Abroad)

年 卷 期：1991年第12卷第5期

页      面：17-22页

学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

主　　题：TiC/TiB 涂层 结构 性能 工艺参数 

摘      要：由磁控溅射方法制得的多层TiC/TiB_2,在沉积过程中采用了不同程度的离子轰击,在以前的研究中,考虑到裂纹扩展阻力及磨损特性,特别在间歇切削条件下,5μm厚的整个涂层产生最佳性能的单层数目大约100～200,有迹象表明,界面区域阻碍裂纹,基体不加偏压溅射后,这些区域大约有2～3nm的扩展带,在沉积过程中,离子轰击导致相似的界面区域,改变了涂层组织,并且特别在多层涂层的情况下可以得到最好的涂层性能,对5μm厚涂层,要获得最佳性能及耐磨性大约需500单层,本文研究组织结构、性能与工艺参数间的关系。