157nm氟化物光学薄膜制备

作     者：薛春荣 易葵 邵建达 XUE Chun-rong;YI Kui;SHAO Jian-da

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 常熟理工学院江苏新型功能材料实验室江苏常熟215500 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2010年第39卷第11期

页      面：1961-1966页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金(60678004)资助 

主　　题：氟化物材料 157nm 高反膜 增透膜 

摘      要：为了研制低损耗、高性能的157nm薄膜,研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料.制备和研究了六种氟化物单层膜,并以不同高低折射率材料对,设计制备了157nm高反膜和增透膜;讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜和增透膜的反射率、透射率、光学损耗等特性.结果表明,采用NdF3/AlF3材料对设计制备的157nm高反膜的透过率为1.7%,反射率接近93%,散射损耗为2.46%,已经与吸收损耗相当;以AlF3/LaF3材料对设计制备的157nm增透膜的剩余反射率低于0.17%.