纯钛表面微米级多孔TiO_2薄膜的制备及形成机制
Preparation and Its Forming Mechanism of Micron-Dimensional Porous TiO_2 Films on the Surface of Pure Titanium作者机构：辽宁工业大学辽宁锦州121001
出 版 物：《稀有金属材料与工程》 (Rare Metal Materials and Engineering)
年 卷 期：2008年第37卷第12期
页 面：2253-2256页
核心收录：
学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术]
摘 要：研究了阳极氧化电压、氧化时间和电解液的浓度对纯钛表面形成的阳极氧化薄膜形貌的影响。在氧化电压为20V,HF溶液浓度为0.5%(质量分数,下同),氧化时间为60min的条件下,可在纯钛表面获得分布比较均匀的微米级多孔氧化膜,孔径为1.5～2.2μm。经500℃,1h处理后,该薄膜成为锐钛矿结构的TiO2。可以通过控制工艺参数,使得TiO2钝化膜的局部溶解速率大于形成速率来获取这种微米级多孔TiO2薄膜。
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