用Gd_2O_3做介质缓冲层制作金属包覆光波导偏振器
Metal Cladding Optical Waveguide Polarizer Using Gd_2O_3 As a Buffer Layer作者机构：国防科技大学应用物理系
出 版 物：《国防科技大学学报》 (Journal of National University of Defense Technology)
年 卷 期：1996年第18卷第3期
页 面：138-141页
核心收录：
学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 0702[理学-物理学]
基 金："八五"重点预研资助
摘 要：首次报道了采用Ｇｄ２Ｏ３薄膜作介质缓冲层制作金属包覆Ｔｉ：ＬｉＮｂＯ３光波导偏振器。通过对理论模型的计算选取合适的介质缓冲层厚度，给出了理论计算和实验结果。测试结果表明，我们实际制作的Ｇｄ２Ｏ３／Ａｌ包覆Ｔｉ：ＬｉＮｂＯ３偏振器的偏振消光比３５ｄＢ。
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