材料表面处理用强流电子回旋共振离子源

作     者：明建川 郭之虞 彭士香 Ming Jianchuan;Guo Zhiyu;Peng Shixiang

作者机构：北京大学核物理与核技术国家重点实验室北京100871 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2012年第24卷第12期

页      面：2911-2914页

核心收录：

学科分类：0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 082701[工学-核能科学与工程] 0827[工学-核科学与技术] 0702[理学-物理学] 

主　　题：电子回旋共振离子源 微波窗 表面处理 引出系统 

摘      要：介绍一台2.45GHz永磁强流电子回旋共振离子源,其外径160mm,高90mm,放电室直径70mm,高50mm。微波馈入采用介质耦合方式,微波窗由一块50mm×10mm柱形BN和两块30mm×10mm的柱形陶瓷构成。离子源工作在脉冲模式下,采用三电极引出系统,最高引出电压达到100kV,在微波输入功率300W、进气量0.4mL/min时,可引出峰值超过30mA的氮离子束,在距离离子源引出孔1200mm位置处的束流均匀区直径大于200mm。