磁过滤等离子体沉积和注入技术
Magnetic filtered plasma deposition and implantation technique作者机构：射线束技术与材料改性教育部重点实验室
出 版 物：《核技术》 (Nuclear Techniques)
年 卷 期：2002年第25卷第9期
页 面：695-698页
核心收录：
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0807[工学-动力工程及工程热物理] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0827[工学-核科学与技术] 0703[理学-化学] 1009[医学-特种医学] 0702[理学-物理学] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）]
主 题：磁过滤器 等离子体沉积 阴极真空弧技术 等离子体注入 薄膜 金属等离子体 材料 表面改性
摘 要：利用阴极真空弧放电技术能够产生高密度的金属等离子体。经过 90度的磁过滤器 ,可以除去金属等离子体中的大颗粒微粒 ,从而为制备高质量的、致密的各种薄膜提供了一种全新的技术。利用该技术制备薄膜具有非常广泛的应用。本文介绍了阴极真空弧放电技术的应用 。
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