基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究
Study on Planarization Layer Uniformity of Large-aperture Optical Elements Based on Ion Beam Sputtering作者机构：长春理工大学光电工程学院长春130022 中国兵器科学研究院宁波分院浙江宁波315103 长春理工大学电子信息工程学院长春130022
出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)
年 卷 期：2019年第48卷第1期
页 面：199-204页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学]
基 金：内蒙古自然科学基金(No.2017MS0539) 宁波市自然科学基金(No.201601HJ-B01286)~~
主 题：薄膜 离子束溅射沉积 膜厚均匀性 大口径光学元件 驻留时间
摘 要：针对大口径光学元件溅射沉积膜厚不均匀的问题,采用离子束溅射平坦化层来改善光学元件表面粗糙度.利用膜厚检测仪测出光学元件沉积面上的中心区域以及各边缘区域的膜厚值,计算离子束在光学元件中心与边缘驻留时间比,并通过MATLAB拟合驻留时间分布规律,根据所得的数据进行逐级修正.实验结果表明,当驻留时间比优化为-26.6%时,可以实现在直径300～600mm大口径的光学元件上均匀镀膜,以熔石英表面上镀硅膜为例,溅射沉积6h,表面膜厚为212.4±0.3nm,薄膜均匀性达到0.4%.
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