SrTiO_3同质外延过程中的反射高能电子衍射图案分析
Analysis of reflection high-energy electron diffraction pattern during SrTiO_3 homoepitaxy作者机构：电子科技大学微电子与固体电子学院成都610054
出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期：2005年第54卷第1期
页 面：217-220页
核心收录：
学科分类：07[理学] 070203[理学-原子与分子物理] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0704[理学-天文学] 0702[理学-物理学]
主 题：RHEED 弛豫 晶格常数 衍射条纹 SrTiO3 表面 二维 激光分子束外延 反射高能电子衍射 振荡
摘 要：在激光分子束外延实验中 ,用RHEED原位监测了SrTiO3基片初始、退火以及同质外延过程中的表面形态 .通过对RHEED图案分析 ,获取了表面面内的晶格常数振荡与衍射条纹的半高宽振荡现象 ,前者是由退火重构表面与薄膜之间的界面造成的 ,后者与二维岛边界的弛豫相关 .
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